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      MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

        MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑

      MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑,特別適用于外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計,在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。

      特色及優點

      極好的貼合度-高良率

      蓋孔能力優異

      顯影后邊墻垂直/電鍍后邊墻垂直

      顯影泡沫少

      高解析度、高附著力

      應用于酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象

      化學物質滲漏少

      堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小

      堿性褪膜速度快

      項目
      單位
      MAH220
      MAH215
      備注
      厚度
      μm
      50
      38

      感度*1
      mj/cm2
      40
      30

      最短顯影時間
      sec.
      32
      25

      附著力*1*2(L/S=X/250)
      μm
      30
      25

      解析度*1*2(L/S=X/X)
      μm
      30
      25

      蓋孔孔徑
      μm
      7.5
      6.5

      *1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺,推薦硬化格數的中心值的曝光能量,海圣平行光曝光機制作(UVE-HSP5K-11

      *2:1wt%Na2CO3,30℃,最短顯影時間x2

      *3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。



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